碳酸钙研磨分散剂的种类 常用的碳酸钙研磨分散剂有三大类。无机类（如六偏磷酸钠、二硅酸钠等）、有机类(如苯磺酸盐等)、高分子类(聚羧酸盐、聚衍生物)。目前在碳酸钙的超细研磨中普遍采用的是高分子类分散剂。 无机类分散剂。无机类分散剂的作用机理是通过增加碳酸钙颗粒表面的电荷，T-F06分散剂售价，增强表面的静电斥力，使粒子在热运动、布朗运动过程中难以进一步靠拢而絮聚。部分无机类分散剂还能够增强颗粒表面的润湿程度。主要有聚磷酸盐（如六偏磷酸钠）、硅酸盐、碳酸盐等，其中以六偏硫酸钠为常用。但需要注意的是无机分散剂会对导电率、介电常数带来不良影响，也因此使得无机类分散剂的应用尤其是在超细研磨中受到极大的限制。 有机类小分子分散剂。有机类小分子分散剂主要为各种表面活性剂，可分为3类：阴离子型、非离子型和阳离子型。离子型的分散剂主要通过表面电荷的静电斥力作用，非离子型分散剂主要通过空间位阻作用来改善悬浮液的稳定性能，另外此类分散剂在改善碳酸钙颗粒表面润湿性能方面也有很大的作用。常用的有机小分子分散剂主要有聚醚或烷芳基的硫酸盐、氯化物、酚聚乙烯醚等。 高分子类分散剂。高分子类分散剂的相对分子质量一般在1000-100000，其功能基团一般包含2个部分：一部分为锚固基团，主要通过离子键、共价键、氢键和范德华力等作用以单点或多点锚固的形式紧密地吸附或结合在颗粒表面，常见的锚固基团有—NR3+、—R2、—COOH、—COO-、—SO3H、—SO3-、—PO42-、多元胺、多元醇及聚醚等；另一部分为可被分散介质溶剂化的聚合物链，用于构建空间位阻基团，产生空间位阻，T-F06分散剂厂，防止碳酸钙颗粒絮聚，常见的空间位阻基团构建聚合物链有聚酯、聚醚、聚烯烃以及聚酯等。
涂料中多使用锌白、钛、氧化铁、碳酸钙、硫酸钡等氧化物和不
涂料中多使用锌白、钛、氧化铁、碳酸钙、硫酸钡等氧化物和不溶于水的无机盐。无机颜料的表面极易吸收水，通常在粒子的外围有着一层水分子，使颜料的固体颗粒形成聚集体或相互隔离的屏障，为了消除屏障，促进颗粒分散。
因此在涂料制造过程中必须向漆料中加入颜料分散剂，T-F06分散剂，它能有选择地吸附于无机颜料的表面，使得与之相对应的离子远离表面而形成带电荷的电偶层，这样就能很好的改变或者消除屏障，达到润湿、分散和稳定的效果。
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